日本表面真空学会

2019年12月9日（月）13:00～19:00（受付12:40～）

機械振興会館 地下3F 研修-2号室　交通アクセス
東京都港区芝公園3-5-8（東京タワー前）

　スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）では、会員相互の技術情報交換の場を提供するために、年末の定例研究会と技術交流会の同時開催を企画しています。毎回ご好評をいただいており、同時開催は今年で16回目となります。
　今回の定例研究会ではスパッタリング成膜におけるターゲットからのイオン衝撃を積極的に利用した成膜技術、また近年注目されつつある有機材料などのスパッタリングに関する基礎的な研究をとりあげました。また、本年6月に開催されましたISSP2019のポスター賞受賞者の発表を含め開催します。
　技術交流会ではショートプレゼンテーションとポスターセッションをあわせた形で開催いたします。またポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします。この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき、会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております。部会員以外の方の参加も歓迎いたします。皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。なお、ポスター発表者の当日（定例研究会と技術交流会）の参加費は無料です。

定例研究会
(1)13:00～13:40
    スパッタ法におけるイオン照射を利用した六方晶系圧電薄膜の結晶配向制御    
                                                             高柳真司（同志社大学 生命医科学部 医情報学科）
(2)13:40～14:20
     生体分子の薄膜試料の高速C₆₀イオン照射によるスパッタリング
                                  中嶋　薫（京都大学 大学院工学研究科 マイクロエンジニアリング専攻）

ISSP2019 Poster Award 受賞記念講演（2件，講演は日本語）
(3)14:20～14:40
     Electrochromic properties of sputter-deposited rhodium oxide thin films with various
     film thicknesses
         C. Y. Jeong*^1),2), Y. Abe¹⁾, M. Kawamura¹⁾, K. H. Kim¹⁾, T.Kiba¹⁾,H. Watanabe²⁾,
                         T. Kawamoto²⁾, K. Tajima^2)　　1)Kitami Institute of Technology, ²⁾AIST
(4)14:40～15:00
     Treatment of deteriorated cutting fluid by atmospheric-pressure plasma and in-liquid
     plasma
                                               J. Miyamoto*¹⁾, R. Tsuboi¹⁾, S. Kawada²⁾, M. Yoshida^{1)
                                                       1)}Daido University, ²⁾Tokyo University of Science

                                                      －休憩－
技術交流会
(5)15:20～17:20　　ショートプレゼンテーション（9件）
　＊下記ポスターセッション番号 ①②③④⑤⑦⑧⑨⑪の順に発表

(6)17:30～19:00　　ポスターセッション（11件）

① 研究開発用スパッタ装置QAMシリーズの紹介－ヘリコンスパッタを用いた
      薄膜材料開発の歴史と今後の展望－                            杉田浩志（アルバック九州株式会社）

② プラズマ中及び固体表面における負イオンの生成－門前の小僧習った経を読む－
                                                          後藤康仁（京都大学大学院工学研究科電子工学専攻）

③ ZnOコーティングによるボールベアリングの高性能化と産業応用
         土佐正弘*, 佐々木道子, 後藤真宏, 笠原　章, 本田博史, 鈴木　裕（物質・材料研究機構）

④ ITO/glass基板上に堆積したVO₂積層素子の協調発振現象
                                                     戸部龍太*¹⁾, 沖村邦雄¹⁾, モハメッド シュルズ ミヤ²⁾
                                                                                     （¹⁾東海大院工, ²⁾成蹊大理工）

⑤ 新しい反応性スパッタ装置（P-RAS）の提案とYSZ成膜
                                                               一色秀夫* ¹⁾, 田中康仁^1),2), 税所慎一郎^1),2)
                                    （¹⁾電気通信大学大学院情報理工学研究科，²⁾株式会社シンクロン）

⑥ マグネトロンスパッタリングにより形成した機能性チタン合金上純チタン皮膜の特性評価
                                                                    園田　勉*, 斎藤隆雄（産業技術総合研究所）

⑦ 高密着特性を有するCu合金薄膜およびスパッタリングターゲットの開発
                          高木　瞭*, 高澤　悟, 中台保夫, 新田純一, 清田淳也（株式会社アルバック）

⑧ デュアルカソード大電力パルススパッタ装置におけるプラズマ電位制御
                    前田直彦*, 藤井奈々, モハメッド シュルズ ミヤ, 中野武雄（成蹊大学理工学部）

⑨ 高圧力下における反応性スパッタで作製した
      酸化タングステン薄膜におけるエレクトロクロミック特性の膜厚依存性
                 八木理子*, 室伏麻理子, モハメッド シュルズ ミヤ, 中野武雄（成蹊大学理工学部）

⑩ 太陽電池応用を目指したヨウ化銅薄膜の形成
                                                  金子哲也* ^1),2), 畑　由鶴¹⁾, 佐藤祐希²⁾, 磯村雅夫^1),2)
           （¹⁾東海大学工学部電気電子工学科, ²⁾東海大学大学院工学研究科電気電子工学専攻）

⑪ 反応性スパッタで作製した酸化チタン薄膜の結晶構造の製膜時圧力依存性
                西島　葵* ¹⁾, 田村咲季 ¹⁾, 大家　渓 ²⁾, モハメッド シュルズ ミヤ¹⁾, 中野武雄¹⁾
                                                                                           （¹⁾成蹊大, ²⁾工学院大）

      

◆ポスター発表を募集いたします◆ ポスター発表のみでも結構ですが、できるだけショートプレゼンもお願いいたします。 発表内容については特に制限を設けません。新製品の宣伝的な内容、困り事の相談的な内容でも結構です。研究機関等にご所属の方の研究紹介も歓迎します。 発表を希望される方は、以下の申し込みページよりお申し込みください。 　ポスター発表申込方法： 申込みは終了しました。 　ポスター発表申込期限： 11月25日（月） 11月28日（木）に延長しました。 　アブストラクト（A4用紙1枚）提出期限： 11月28日（木） 　アブストラクト（A4用紙1枚）提出先： 公益社団法人日本表面真空学会 事務局 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  E-mail：office＠jvss.jp

第1～15回ポスター発表参加者
大阪大学、金沢工業大学、関東学院大学、京都大学、近畿大学、信州大学、成蹊大学、千葉工業大学、中部大学、東海大学、東京大学、東京理科大学、東北大学、東洋大学、名古屋大学、兵庫県立大学、法政大学、AGCセラミックス(株)、(株)COMET、秋田県産業技術総合研究センター、AGC(株)（旧称:旭硝子(株) ）、(株)アルバック、アルバックテクノ(株)、(株)イー・エム・ディー、イーグル工業(株)、(株)大阪真空機器製作所、オリンパス(株)、キヤノン(株)、キヤノンアネルバ(株)、芝浦メカトロニクス(株)、(株)昭和真空、(株)シンクロン、助川電気工業(株)、(株)スピネット、セントラル硝子(株)、大亜真空(株)、東京電子(株)、(株)日鉱マテリアルズ、日本真空光学(株)、日本ビクター(株)、(株)ブリヂストン、平和電機(株)（旧称:平和電源）、ペガサスソフトウエア(株)、(株)ホンダロック、都城工業高等専門学校、(株)村田製作所　（敬称略、五十音順）

1. SP部会会員                                                                        無 料
2. 日本表面真空学会個人正会員                                           ￥23,000
3. 日本表面真空学会法人正会員・維持会員・賛助会員所属の方  ￥18,000
4. 教育機関，公的機関に属する方                                        ￥12,000
5. 学生                                                                             ￥5,000
6. 一般                                                                           ￥28,000
7. ポスター発表者                                                                  無 料

申込みは終了しました。

問合せ先： 公益社団法人日本表面真空学会 事務局
                TEL：03-3812-0266　FAX：03-3812-2897　E-mail：office＠jvss.jp

本件担当： 公益社団法人日本表面真空学会 SP部会 （シンクロン）松本繁治、（ULVAC）高澤 悟