VACUUM2022真空展「薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2022年10月19日（水）〜21日（金）

締切日

2022年10月05日

会場

東京ビッグサイト　西ホール2階　西2－商談室(2)
（東京都江東区有明3-11-1）　交通アクセス

プログラム

半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製技術やプロセスの基本技術が学べます。全6講座、それぞれの専門に特化した内容です。

『真空排気システム、非蒸発型ゲッター蒸着』
日時：10月19日（水）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：間瀬一彦（高エネルギー加速器研究機構加速器研究施設教授／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．真空技術の基礎
　　　2．真空排気
　　　3．真空用材料・真空部品
　　　4．非蒸発型ゲッター蒸着
　　　5．安全、環境保全、省エネルギー
＊真空技術は、半導体デバイスやフラットパネルディスプレイの製造、成膜において必要となる基盤技術です。本講座では、真空排気システムに関する知識とノウハウを、多くの図や動画を用いて丁寧に説明します。また、最新の超高真空技術である非蒸発型ゲッター蒸着について解説します。初めて真空排気システムを学ぶ方はもちろん、もう一度基礎を学び直したい方は、是非ご参加下さい。
（注）本講座の内容の一部は、オンライン真空講習会、オンライン真空講習会入門講座と重複しますのでご注意下さい。

『スパッタ薄膜の組成及び構造制御－酸化物を中心に－』
日時：10月19日（水）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：沖村邦雄（東海大学工学部電気電子工学科教授）
内容：1．スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
　　　2．スパッタ成膜のプロセス圧力と成膜温度と堆積膜の組成及び構造
　　　3．反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
　　　4．基板バイアス印加の効果と構造制御の例
＊本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力や基板温度などの成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか解説します。特に、酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について重点的に解説します。具体例として光学薄膜や透明導電膜を取り上げ、組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。

『真空プロセスで取り扱う化学物質の危険性と対策』
日時：10月20日（木）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：関口　敦（工学院大学教育支援機構特任教授／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．真空プロセスで取り扱う化学物質
　　　2．原料物質の安全性
　　　3．化学物質と真空ポンプ
　　　4．ガス検知器と排気ガス処理
＊ドライエッチングやCVDのみならず、スパッタなどのPVDにおいても複雑な反応を組み込んだプロセスを使用する機会が増えてきました。本講義では、このような昨今の真空プロセスで使用されている化学物質の危険性を解説すると共に対策を紹介いたします。真空器機の中で、ある種の真空ポンプは原料や生成物を溜め込む性質があります。このような真空器機を使用するプロセスの安全対策を解説します。

『半導体・LSIの薄膜技術：デバイス、プロセスと材料評価』
日時：10月20日（木）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：中村友二（東京工業大学科学技術創成研究院特任教授）
内容：1．はじめに：シリコン半導体と薄膜技術
　　　2．シリコン半導体集積回路(LSI)の微細化と素子構造
　　　3．LSIの製造プロセス：多層配線技術
　　　4．成膜技術：スパッタ，CVD，ALD
＊シリコン半導体集積回路（LSI)の製造工程に、真空技術を用いた薄膜技術が不可欠であることは言うまでもありません。本講座では、LSIデバイスの微細化や3次元集積化にともなう、素子構造と製造プロセスの変遷を、薄膜の機能と役割という観点から振り返ります。また、スパッタリングやCVD・ALDにより形成された各種薄膜の成膜・加工と構造や物性に関するトピックスを紹介します。

『超高真空技術』
日時：10月21日（金）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：山川紘一郎（日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター研究副主幹／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．超高真空の基礎
　　　2．超高真空材料
　　　3．真空ポンプと真空計
　　　4．装置製作技術
　　　5．薄膜と超高真空
＊超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加下さい。

『スピントロニクスデバイスの製造装置』
日時：10月21日（金）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：恒川孝二（キヤノンアネルバ株式会社取締役・最高技術責任者）
内容：1．スピントロニクスデバイスの種類
　　　2．スピントロニクスデバイスの構造と製造プロセス
　　　3．スピントロニクスデバイスの製造装置
＊電子の持つ電気(電荷)と磁気(スピン)の２つの性質を同時に利用するスピントロニクスデバイスは、半導体デバイスなどと比較すると比較的最近普及したデバイスです。ですが実は様々な分野で使用されています。本講義では、代表的なスピントロニクスデバイスであるハードディスクドライブの磁気ヘッド、磁気抵抗メモリ(MRAM)、および磁気センサーについて紹介し、その構造と製造プロセス、製造装置について解説します。