VACUUM2022真空展「規格標準報告会」

主催

日本表面真空学会、日本真空工業会

開催日

2022年10月20日（木）10:10～12:10（受付9:30～）

締切日

2022年10月19日

会場

東京ビッグサイト　西ホール内　セミナー会場B
（東京都江東区有明3-11-1）　交通アクセス

プログラム

日本の半導体と真空技術の国際規格動向
　日本表面真空学会（JVSS）と日本真空工業会（JVIA）は、「規格標準合同検討委員会」を組織して真空技術に関するJISやISO規格の提案・検討を協力して行なっています。
日本の半導体産業については、新型コロナウイルス対応によるデジタル化の進展、カーボンニュートラルに向けた動き、世界的な半導体需給状況のひっ迫、先端技術を取り巻く貿易問題など、取り巻く環境は大きく変化しています。そこで今年は、経済産業省製造産業局産業機械課の池田様をお招きして、日本の半導体政策の動向についてご講演いただくとともに、産業技術総合研究所TIA推進センター林様をお招きして、先端半導体製造技術コンソーシアムの現状についてご講演いただきます。
また、規格標準合同検討委員会の取組として、審議を行ったナイフエッジフランジのJIS規格や真空装置用図記号、及び最近の真空技術に関するISO・JIS制改定状況について報告いたします。

1.「日本の半導体政策の動向について」
　池田秀俊（経済産業省製造産業局産業機械課）

2.「先端ロジック半導体技術トレンドとその製造プロセス技術～3次元化構造化へのパラダイムシフト～」
　林　喜宏（国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センター戦略連携ユニット）

3.「JIS B 2294 ナイフエッジフランジの形状及び寸法の制定～超高/高真空用メタルフランジのJIS規格化～」
　新井健太（国立研究開発法人産業技術総合研究所）

4.「真空装置用図記号のISO規格とJISの開発」
　吉田　肇（国立研究開発法人産業技術総合研究所）

5.「規格標準合同検討委員会活動報告～最近のISO・JISの制改定等について～」
　神田浩二（キヤノンアネルバ株式会社）