VACUUM2023真空展「薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2023年11月29日（水）〜12月1日（金）

締切日

2023年11月28日

会場

東京ビッグサイト西ホール2階西2－商談室(2)
（東京都江東区有明3-11-1）　交通アクセス

プログラム

半導体、電子部品産業で役立つ真空技術・表面科学・薄膜作製技術やプロセスの基本技術が学べます。
薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。
本講座では薄膜作製に使われる真空環境構築に必要な超高真空技術、超高真空装置内の気体分子の動き、そして産業的にも重要な成膜法であるスパッタリングについて解説します。
また、実際のデバイス製造へ実用化されている薄膜作製・加工・評価技術や製造装置についても解説します。
さらに社会的課題の解決に直結し、水素社会・カーボンニュートラルに貢献する表面科学について紹介します。
全6講座、それぞれの専門に特化した内容です。

『超高真空技術』
日時：11月29日（水）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：山川紘一郎（日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター研究副主幹／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．超高真空の基礎
　　　2．超高真空材料
　　　3．真空ポンプと真空計
　　　4．装置製作技術
　　　5．薄膜と超高真空
＊超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加下さい。

『画像でみる超高真空装置内の気体分子の流れ』
日時：11月29日（水）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：谷本育律（高エネルギー加速器研究機構教授/日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．分子流領域における気体分子運動論のおさらい
　　　2．モンテカルロ法による気体分子運動シミュレーション
　　　3．粒子加速器、成膜装置など、様々な条件の超高真空装置への応用例
＊超高真空装置の内部で気体分子がどのように流れているか、うまく頭の中でイメージできていますか？この目に見えない気体分子の振るまいを把握しておくことは、例えば短時間で目標圧に達する真空装置を設計したり、運転技術を習得したりするのに役立ちます。近年では気体分子の流れを比較的容易にPC画面上に3次元で描くことができるようになっており、本講義では主にMolflow+と呼ばれるシミュレーションコードを用いて気体分子の流れを可視化してイメージしやすくします。真空に興味のある初心者から超高真空装置の設計者まで、多くのご参加をお待ちしております。
注）本講座の内容の一部は、真空夏季大学真空応用技術講座と重複しますのでご注意下さい。

『サブナノメートル半導体デバイス製造にむけたプラズマプロセス技術』
日時：11月30日（木）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：浜口智志（大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻教授）
内容：1．プラズマプロセスの基礎
　　　2．原子層堆積（ALD）
　　　3．原子層エッチング（ALE）
　　　4．プラズマプロセス制御の高精度化
＊近年、微細化の限界に近づいた最先端半導体デバイスは、新規材料の導入や３次元構造化により、その製造が極めて複雑となり、原子精度の加工技術の確立が急務となっています。本講義では、原子精度加工をリードするプラズマプロセス技術、特に、ALDやALE技術の基礎について解説し、かつ、人工知能（AI）を用いた高精度プロセス制御の可能性についても紹介します。

『スピントロニクスデバイスの製造装置』
日時：11月30日（木）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：恒川孝二（キヤノンアネルバ株式会社取締役・最高技術責任者）
内容：1．スピントロニクスデバイスの種類
　　　2．スピントロニクスデバイスの構造と製造プロセス
　　　3．スピントロニクスデバイスの製造装置
＊電子の持つ電気(電荷)と磁気(スピン)の２つの性質を同時に利用するスピントロニクスデバイスは、半導体デバイスなどと比較すると比較的最近普及したデバイスです。ですが実は様々な分野で使用されています。本講義では、代表的なスピントロニクスデバイスであるハードディスクドライブの磁気ヘッド、磁気抵抗メモリ(MRAM)、および磁気センサーについて紹介し、その構造と製造プロセス、製造装置について解説します。

『水素社会・カーボンニュートラルに貢献する表面科学』
日時：12月1日（金）12:30～14:30（受付12:00～）
講師：近藤剛弘（筑波大学物質工学域教授／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．CO₂の振動エネルギーが駆動する表面化学反応
　　　2．水素を「つくる」技術で重要な電極触媒材料
　　　3．水素を「ためる」技術で重要な新材料
　　　4．水素を「つかう」技術で重要な電極触媒材料
＊カーボンニュートラルの実現に向けて水素を利活用する技術や二酸化炭素の転換技術が注目されています。本講座では、二酸化炭素からメタノールを合成する銅系触媒における最初の反応ステップである二酸化炭素の水素化反応に関する最近の研究成果や、水素を利活用するための新しい材料に関する研究成果について表面科学の分析技術の観点から紹介します。

『スパッタ薄膜の組成及び構造制御』
日時：12月1日（金）15:00～17:00（受付14:30～）
講師：沖村邦雄（東海大学工学部電気電子工学科教授）
内容：1．スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
　　　2．スパッタ成膜のプロセス圧力と成膜温度と堆積膜の組成及び構造
　　　3．反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
　　　4．基板バイアス印加の効果と構造制御の例
＊本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力や基板温度などの成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか解説します。酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について詳しく解説します。具体例として光学薄膜や透明導電膜、相転移酸化膜を取り上げ、組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。
注）本講座の内容の一部は、真空夏季大学と重複しますのでご注意下さい。