VACUUM2024真空展「真空と薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2024年9月19日（木）〜20日（金）

締切日

2024年09月05日

会場

東京ビッグサイト東ホール2F 東5-商談室(4)（東京都江東区有明3-11-1）

プログラム

＜半導体、電子部品産業で役立つ真空技術・薄膜作製技術やプロセスの基本技術が学べます。＞

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。
本講座では薄膜作製に使われる真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的にも重要な成膜法である真空蒸着やスパッタリングについて解説します。また、デバイス製造へ実用化されているプラズマプロセス技術についても解説します。全４回の講座は、専門に特化した別々の魅力的な内容となっています。

●9月19日（木）12:30～14:30（受付12:00～）
『真空蒸着法、有機EL製造技術～真空の”質”：その重要性と影響～』
講師：藤本　弘（福岡県産業・科学技術振興財団有機光エレクトロニクス実用化開発センター
　　　　　　　　(i³-opera) 副センター長兼研究室長、九州大学客員准教授）
内容：1．はじめに：有機ELと薄膜形成技術
　　　2．真空蒸着の基礎と蒸発源
　　　3．有機EL素子製作と真空の質
＊真空蒸着法は、古くからある薄膜形成技術の一つです。有機ELディスプレイでは、比較的低温で蒸着する有機材料を長時間かつ大面積に均一に成膜することが求められます。このため、蒸着の基礎を理解することは非常に重要です。さらに、真空の質は有機EL素子の耐久性に大きな影響を与えます。本講座では、真空蒸着の基礎と真空の物理に関する基本的な知識を解説し、真空の質がいかに重要か、その研究成果を紹介します。

●9月19日（木）15:00～17:00（受付14:30～）
『スパッタ薄膜の組成及び構造制御』
講師：沖村邦雄（東海大学工学部電気電子工学科教授）
内容：1．スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
　　　2．スパッタ成膜の成膜パラメータと堆積膜の組成及び構造の関係
　　　3．反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
　　　4．基板バイアス印加の効果と構造制御の例
＊本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力等の成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか調べます。酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について詳しく解説します。本年は具体例を詳しく取り上げ、光学薄膜、透明導電膜、相転移酸化膜における組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。（注）本講座の内容の一部は、真空夏季大学と重複しますのでご注意下さい。

●9月20日（金）12:30～14:30（受付12:00～）
『サブナノメートル半導体デバイス製造にむけたプラズマプロセス技術』
講師：浜口智志（大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻教授）
内容：1．プラズマプロセスの基礎
　　　2．原子層堆積（ALD)
　　　3．原子層エッチング（ALE)
　　　4．プラズマプロセス制御の高精度化
＊近年、微細化の限界に近づいた最先端半導体デバイスは、新規材料の導入や３次元構造化により、その製造が極めて複雑となり、原子精度の加工技術の確立が急務となっています。本講義では、原子精度加工をリードするプラズマプロセス技術、特に、ALDやALE技術の基礎について解説し、かつ、人工知能（AI)を用いた高精度プロセス制御の可能性についても紹介します。

●9月20日（金）15:00～17:00（受付14:30～）
『超高真空技術』
講師：山川紘一郎（日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター研究副主幹
　　　　　　　　　　／日本表面真空学会教育・育成委員）
内容：1．超高真空の基礎
　　　2．超高真空材料
　　　3．真空ポンプと真空計
　　　4．装置製作技術
　　　5．薄膜と超高真空
＊超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加下さい。

※上記講義時間には、休憩・質疑時間を含みます。