SP部会第164回定例研究会

主催

日本表面真空学会

開催日

2020年9月7日（月）13:00～16:45（接続受付12:30～）

締切日

2020年08月28日

会場

オンライン

プログラム

　LEDやフォトダイオード、太陽電池などソリッドステートの発光・受光デバイスは、既に私たちの暮らしになくてはならないものになっています。当初これらのデバイスの発光層やパッシベーション層の作製にはCVDが用いられてきましたが、大面積化やコストの要求から、スパッタプロセス・プラズマプロセスの適用例も多く見られるようになってきました。今回の研究会では、スパッタやALDプロセスに様々な工夫をこらし、これらの物性改善に繋げた例を紹介いただきます。また会の冒頭では、2019年度SP部会賞の授賞式ならびに記念講演も実施します。今回の研究会は当初3月に予定されていましたが、新型コロナウイルスの感染拡大を受け延期となっておりました。現在も対面での実施が困難なことから、今回、Web会議形式で開催する運びとなりました。研究会として初の試みとなりますが、多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

テーマ
　スパッタ等の真空プロセスでつくる発光・受光デバイス

開催方法
　Web会議形式（Zoomを予定）
　※講演資料集冊子を会議に先だって郵送します。当日のアクセスの詳細は、申込みいただいた方に別途ご案内します。

プログラム
13:00～13:05　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長（京都大学）後藤康仁

2019年度SP部会賞授賞式
13:05～13:10
　審査経緯の報告　日本表面真空学会SP部会副部会長（成蹊大学）中野武雄
　受賞者：東京電子株式会社、中谷達行（岡山理科大学）、福江紘幸（岡山理科大学）
　受賞業績：HiPIMS用プラズマ電源の開発

13:10～13:40　SP部会賞受賞記念講演
　「高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」
　（東京電子(株)）黒岩雅英

講　演　※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:40～14:20
　「機能性酸化物・窒化物薄膜の長尺低温形成に向けた反応性プラズマプロセスの開発」
　（大阪大学）節原裕一

14:20～15:00
　「スパッタと高温アニールによる高結晶性AlN膜の作製」
　（三重大学）三宅秀人

15:00～15:20　休　憩

15:20～16:00
　「原子層堆積法で作製した酸化チタンの結晶シリコンに対するパッシベーション効果の発現機構」
　（名古屋大学）後藤和泰

16:00～16:40
　「RFスパッタ堆積した酸化物半導体材料と透明インテリジェントデバイスの開発」
　（東京理科大学）杉山　睦

16:40～16:45　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会副部会長（成蹊大学）中野武雄

禁止事項
　本研究会参加にあたり、下記の行為を禁止します。ご協力お願いします。
（1）定例研究会への参加申込者以外が定例研究会を視聴すること
（2）定例研究会のミーティングID、パスワード、URLを第三者に知らせること
（3）発表画面、音声等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
（4）発表画面、音声、資料等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
（5）他の参加者又は講師に迷惑・不利益を与える行為
（6）その他著作権法等の法令に反する行為