日本表面真空学会

2020年12月7日（月）10:00～16:30（内休憩1時間）

オンライン

開催方法
Web会議形式（Zoom）
※事前にお申込みいただいた方宛にテキストを郵送します。当日のアクセスの詳細は、別途ご案内します。

講　師
中村　圭二（中部大学工学部　電気電子システム工学科　教授）

題　目
プロセス用プラズマの生成・計測・応用

講義内容
1．プラズマ生成
1．1　プラズマの構成粒子
1．2　プラズマの電位とシース形成
1．3　荷電粒子およびラジカルの生成と維持
1．4　プラズマの各種生成法
　　（直流放電、静電結合型高周波プラズマ、誘導結合型高周波プラズマ、マイクロ波プラズマ）
2．プラズマのプロセスへの応用
2．1　プロセスにおけるプラズマの役割
2．2　プラズマに曝された表面での現象（堆積、エッチング、スパッタリング、注入）
2．3　実際のプロセス例
3．プラズマ計測
3．1　電気的手法～ラングミュアプローブ
3．2　波動的手法～表面波プローブ（プラズマ吸収プローブ）
3．3　光学的手法～発光分光法、アクチノメトリ法、吸収分光法
3．4　粒子的手法～質量分析法、出現質量分析法

禁止事項
本講習会受講にあたり、下記の行為を禁止します。ご協力お願いします。
（1）講習会への申込者以外が講習会を視聴すること
（2）講習会のミーティングID、パスワード、URLを第三者に知らせること
（3）発表画面、音声等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
（4）発表画面、音声、資料等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
（5）他の受講者又は講師に迷惑・不利益を与える行為
（6）その他著作権法等の法令に反する行為

30名（先着順にて定員になり次第締め切らせていただきます。）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会員） 10,000円
日本表面真空学会会員（個人正会員、法人正会員、維持会員、賛助会員） 30,000円
一　般　40,000円
学　生　 5,000円
（テキスト代・消費込み）

申込みは終了しました。

申込締切　2020年11月27日（金）15:00

銀行振込（申込受付完了後、請求書を発送します。）

「受講者の都合による取消し及び不参加」の場合、受講料の払い戻しはいたしません。ただし、受講者の変更は差し支えありません。

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
E-mail: office@jvss.jp