スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第168回定例研究会　Nano-ISSP2021 ～ from fundamentals to applications

主催

日本表面真空学会

開催日

2021年9月2日（木）15:00～18:50（接続受付14:30～）

締切日

2021年08月31日

会場

オンライン（Zoom）

プログラム

　本年は「第16回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム“The 16th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes: ISSP 2021”」の開催年となっていましたが、新型コロナウイルス感染拡大が懸念されることから2022年に開催される国際真空会議（International Vacuum Congress）との合同開催となり、今年度は海外研究機関との交流が叶わない状況となりました。そこでSP部会では、最近のオンライン会議の利点を活用し、小規模ではありますが本部会の定例研究会として、スパッタリングの基礎から応用に関して、国内外の研究者間の交流ができる機会を設けることにしました。海外の先生方にもご協力をお願いし、できるだけ無理のない時刻の開催となるように設定しました。多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

テーマ
　Nano-ISSP2021～スパッタリングの基礎から応用まで

会告
　Japanese ／ English

開催方法
　オンライン（Zoom）
　※当日のZoom会議にご参加をいただくには、Zoomでの参加登録が必要となります。
　　参加登録のためのリンク情報等の詳細は、お申込みいただいた方に別途ご案内します。

プログラム　※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
15:00～15:05　開会の挨拶
　ISSP2021実行委員会　委員長（産総研）田嶌一樹

15:05～15:45
　“Deposition of various TCO’s and the functional oxide films by dc reactive sputtering; (1) with plasma-emission or impedance feedback systems, (2) hollow cathode gas flow sputtering”, Prof. Yuzo Shigesato (Aoyama Gakuin University, Japan)

15:45～16:25
　“High-density arc plasma technology to tailor oxygen-related defects and its critical roles for achieving unconventional metal oxide films”, Prof. Tetsuya Yamamoto (Kochi University of Technology, Japan)

16:25～16:45　休　憩

16:45～17:25
　“On the deposition rate during reactive magnetron sputtering”, Prof. Diederik Depla (Ghent university, Belgium)

17:25～18:05
　“Bipolar HiPIMS for low-energy ion-bombardment during growth of dielectric thin films”, Prof. Ulf Helmersson (Linköping University, Sweden)

18:05～18:45
　“On electron heating, deposition rate and ion recycling in the high power impulse magnetron sputtering discharge”, Prof. Jon Tomas Gudmundsson (University of Iceland, Iceland)

18:45～18:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会　部会長（京都大学）後藤康仁

禁止事項
　本研究会参加にあたり、下記の行為を禁止します。ご協力お願いします。
（1）本研究会への参加申込者以外が本研究会を視聴すること
（2）本研究会のミーティングID、パスワード、URLを第三者に知らせること
（3）発表画面、音声等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
（4）発表画面、音声、資料等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
（5）他の参加者又は発表者に迷惑・不利益を与える行為
（6）その他著作権法等の法令に反する行為

参加定員

70名程度

費用

SP部会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：3,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：3,000円
教育機関、公的機関に属する方：3,000円
学生：無料　※講演資料集冊子の配布はございません。
一般：5,000円
（資料代・消費税を含む）

申込方法

申込みは終了しました。
Application has been closed.

※お申込みいただいた方全員に電子版の講演資料を配布いたします。
　別途、講演資料集冊子のハードコピーをご希望の方には、会議に先だって郵送します。
（冊子の郵送先は国内に限らせていただきます。）
　ただし、8月25日（水）15時以降のお申込みにつきましては冊子の到着は開催日以降になりますのでご了承ください。

申込締切： 2021年8月23日（月） 8月31日（火）に延長しました。

支払方法

銀行振込
※申込受付完了後、請求書をメール添付にてお送りします。

クレジット決済 / Payment（PayPal）

※参加者の都合による取り消し及び不参加の場合、参加費の払い戻しはいたしません。
　ただし、参加者の変更は差し支えありません。
　In the event of cancellation or non-attendance due to reasons beyond the control of the participant, the registration fee will not be refunded. However, participants may be changed.