対象:会員および一般
速報発信者;後藤康仁(京都大学、日本表面真空学会研究例会企画専門部会)
日本表面真空学会 2019年9月研究例会
主題「真空機器を腐食や汚染などのダメージから守るための技術」
半導体産業や成膜技術等においては、腐食や汚染が懸念される環境で、
真空技術を使わざるを得ない場合があります。こうした過酷環境におい
ても、真空機器を健全に動作させると同時に、パーティクルや不純物ガ
スを発生させないことは、高品質な製品を安定に製造し続けるために極
めて重要な技術です。
そこで今回は、先ず、東北大学の原信義先生より、金属腐食が発生す
る基本原理についてご解説頂きます。続いて、真空環境における腐食や
汚染を防止するための技術を培ってこられたメーカ各社より、最新の成
果をご発表頂きます。最後に、大阪教育大学の辻岡先生より、金属蒸着
選択機能を発現させる表面処理技術について、ご講演頂きます。本技術
を応用すると、所望の位置への金属蒸着による堆積を制御することが可
能になるということです。
本研究会が、腐食や汚染が懸念される環境で真空技術を使わざるを得
ない方々と、真空機器を腐食や汚染から守る技術を開発されてきた方々
とを繋ぐ架け橋となることを願っております。講演会終了後、同じ会場
内でフリーディスカッションとしてご講演者と密にコミュニケーション
を取ることのできる場を設けていますので、併せてご参加ください。
日 時:2019年9月3日(火)14:00~18:30(受付13:30~)
会 場:機械振興会館 地下3階B3-1号室
(東京都港区芝公園3−5−8)
http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html
協 賛:一般社団法人日本真空工業会
講演プログラム:
14:00~14:05 開会の挨拶
板倉 明子(日本表面真空学会研究例会企画専門部会/物質・材料研究機構)
14:05~14:50 原 信義(東北大学)
「金属の腐食の基礎概念」
14:50~15:15 塩川 篤志((株)荏原製作所)
「半導体製造プロセス向けドライ真空ポンプのための防食技術」
15:15~15:40 石榑 文昭((株)アルバック)
「マイクロアーク酸化処理をしたアルミニウム合金のガス放出特性」
15:40~16:05 東 幸緒(中国電化工業(株))
「真空機器用高耐食性ヤギマイト皮膜(アルマイト)の開発」
16:05~16:20 休 憩
16:20~16:45 進藤 豊彦((株)コンタミネーション・コントロール・サービス)
「半導体製造工程のためのコンタミネーション制御」
16:45~17:10 川島 優子((株)大和テクノシステムズ)
「プラズマCVD法で可能になる、微細構造への金属オスミウムコーティング」
17:10~17:55 辻岡 強(大阪教育大学)
「フォトクロミック・ジアリールエテン表面における金属蒸着選択機能」
17:55~18:00 閉会の挨拶
後藤 康仁(日本表面真空学会 研究例会企画専門部会委員長/京都大学)
18:00~18:30 フリーディスカッション
参加費:(当日受付にてお支払いください)
日本表面真空学会会員* 3,000円(予稿集代を含む)
*個人正会員、法人正会員、維持会員、賛助会員
協賛学協会会員 3,000円(予稿集代を含む)
非会員 5,000円(予稿集代を含む)
学 生 無料(予稿集代1,000円)
申込方法:ホームページよりお申込みください。
https://www.jvss.jp/
問合せ先:公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897
E-mail:office@jvss.jp
日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email: