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[ml_191] 日本表面真空学会 SP部会第162回定例研究会(9/13_岡山)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学，日本表面真空学会SP部会長）

　　　　　　　　　　日本表面真空学会
　スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
　第162回定例研究会「酸化バナジウム薄膜の作製とその応用」

　酸化バナジウムは、熱、光および電場などの外部からの刺激により、
モット絶縁体から金属状態へと転移する典型的な強相関電子系材料であ
り、数十年にわたり実験的・理論的研究が精力的に行われてきました。
特に抵抗に関しては、室温付近で数桁におよぶ巨大な変化を伴うため、
不揮発性メモリや高感度センサ、および高速スイッチング素子などの応
用研究も盛んに行われています。
　本研究会では、酸化バナジウムを用いた研究の第一線で活躍されてい
る講師の先生方をお招きし、薄膜成長、基礎物性および新規デバイス応
用などに関する最新の動向をご講演いただきます。本研究会で、スパッ
タリングおよびプラズマプロセス技術が酸化バナジウムの研究・開発に
どのように貢献出来るのか、活発な議論を通じて意見交換ができること
を期待しています。多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

日　時： 2019年9月13日（金）13:00～16:40

場　所：岡山大学理学部 1階大会議室
　　　　（岡山市北区津島中3丁目1-1）
　　　　 https://www.okayama-u.ac.jp/tp/access/index.html

講演プログラム：
13:00～13:40　村岡祐治（岡山大学異分野基礎科学研究所）
「VO₂の薄膜作製について」

13:40～14:20　山本真人（大阪大学産業科学研究所）
「原子層物質上へのVO₂薄膜成長と新奇トランジスタ応用」

14:20～15:00　澤　彰仁（産総研エレクトロニクス・製造領域研究戦略部）
「VO₂電子相転移を利用した電子・光デバイス」

15:00～15:20　休憩

15:20～16:00　土屋哲男（産総研先進コーティング技術研究センター）
「光反応プロセスを用いたVO₂薄膜の低温成長と応用展開」

16:00～16:40　沖村邦雄（東海大学工学部）
「反応性スパッタリングによるVO₂薄膜作製とその応用」

17:30～19:30　懇親会（希望者のみ、参加費4,000円）

参加費（当日受付にてお支払いください．）：
○SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　　無　料
○日本表面真空学会会員
　・個人正会員　　　　　　　　　　　　　　　　23,000円
　・法人正会員，維持会員，賛助会員に属する方　18,000円
○教育機関，公的機関に属する方　　　 12,000円
○学　生　　　　　　　　　　　　　　 1,000円
○一　般　　　　　　　　　　　　　　　　　　　28,000円

申込方法：ホームページよりお申し込みください．
　　　　　 https://www.jvss.jp/

申込締切： 2019年9月10日（火）

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 TEL:03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897
　　　　　 E-mail: office@jvss.jp