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[ml_204] VACUUM2019真空展「併催事業」のご案内（再送）
対象：会員および一般
速報発信者；吉田 秀樹（テクノポート、日本表面真空学会真空展担当）
VACUUM2019真空展「併催事業」のご案内
主 催：日本表面真空学会、日本真空工業会、日刊工業新聞社
会 期：2019年9月4日(水)～6日(金)
会 場：パシフィコ横浜 展示ホール
（横浜市西区みなとみらい1-1-1）
真空展会期中、各種講演、セミナーを併催いたしますので、
ぜひご参加ください。
詳細につきましては、Webページをご覧ください。
https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/seminars.html
●特別基調講演（9/4）
『神岡の地下から探る宇宙と素粒子－ニュートリノと重力波－』
東京大学 宇宙線研究所 所長 梶田 隆章 先生
●基調講演（9/4）
『AIの生産現場導入の「今」とディープラーニングの課題、次世代AI【進化的機械学習】を事例で学ぶ』
横浜国立大学 大学院環境情報研究院 教授 長尾 智晴 先生
●学生ツアー（9/4）＜昼食付＞
真空業界へ、より理解を深めたい学生に向けた会場ツアーです。
●真空フォーラム・シンポジウム「次世代自動車向け材料開発最前線」（9/6）＜全4講演＞
『革新的自動車用高分子材料「しなやかポリマー」の開発』
『全固体電池の開発研究』
『放射光XAFSイメージングで見る燃料電池触媒の劣化現象』
『プラズマCVD法を活用した樹脂製フロントウィンドウの開発』
●薄膜の基本技術講座（9/4，5，6）＜全6講座＞
９/４『スパッタ薄膜の組成制御，構造制御』
９/４『半導体・LSIの薄膜プロセスと評価』
９/５『ディスプレイ，半導体産業，成膜，表面分析に役立つ高真空技術』
９/５『プラズマプロセスによるダイヤモンドライクカーボン薄膜堆積の基礎とその応用』
９/６『LED・ワイドギャップ半導体素子製造プロセスと結晶成長の課題』
９/６『真空蒸着：成膜の基礎および光学薄膜』
●規格標準報告会「パーティクルの付着と除去の解説と、真空技術に関する国際規格の動向について」（9/6）
『パーティクル付着のメカニズム「ドライ洗浄によるパーティクルの除去」』
『規格標準合同検討委員会活動報告「最近のISO・JISの制改定とISO/TC112総会の日本開催について」』
『非蒸発型ゲッターポンプ（NEG）のISO規格化への取り組み「日本提案の国際規格について①」』
『NW63以上の大口径クイックカップリングのISO規格化への取り組み「日本提案の国際規格について②」』
「VACUUM2019真空展」
https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/
日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL：03-3812-0266 FAX：03-3812-2897 Email：