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[ml_240] 【ポスター発表締切延長】SP部会第163回定例研究会・第16回技術交流会(12/9)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
　　　第163回定例研究会・第16回技術交流会
　　　　【ポスター発表募集中（11/28締切）】

日時：2019年12月9日（月） 13:00～19:00（受付12:40～）
場所：機械振興会館　地下3階研修-2号室（東京都港区芝公園3-5-8）
　　　 http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html

プログラム：
●定例研究会
13:00～13:40
「スパッタ法におけるイオン照射を利用した六方晶系圧電薄膜の結晶配向制御」
　高柳真司（同志社大学生命医科学部医情報学科）

13:40～14:20
「生体分子の薄膜試料の高速C₆₀イオン照射によるスパッタリング」
　中嶋　薫（京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻）

14:20～14:40（ISSP2019ポスター賞受賞講演/日本語）
「Electrochromic Properties of Sputter-Deposited Rhodium Oxide Thin Film with Various Thickness」
　C. Y. Jeong*^1),2), Y. Abe¹⁾, M. Kawamura¹⁾, K. H. Kim¹⁾, T.Kiba¹⁾, H. Watanabe²⁾,
T. Kawamoto²⁾, K. Tajima²⁾
　¹⁾Kitami Institute of Technology, ²⁾AIST

14:40～15:00（ISSP2019ポスター賞受賞講演/日本語）
「Treatment of Deteriorated Cutting Fluid by Atmospheric-Pressure Plasma and in-Liquid Plasma」
　J. Miyamoto*¹⁾, R. Tsuboi¹⁾, S. Kawada²⁾, M. Yoshida¹⁾
　¹⁾Daido University, ²⁾Tokyo University of Science

15:00～15:20　休憩

●技術交流会
15:20～17:20　ショートプレゼンテーション（1件8分程度× MAX15件予定）

17:30～19:00　ポスターセッション

参加費：当日受付にてお支払いください。
　ＳＰ部会会員                                                                   無　料
　日本表面真空学会個人正会員                                             ￥23,000
　日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員所属の方    ￥18,000
　教育機関，公的機関に属する方                                          ￥12,000
　学　生                                                                           ￥5,000
　一　般                                                                           ￥28,000
　ポスター発表者                                                                 無　料

申込方法：ホームページよりお申込みください。 https://www.jvss.jp/

参加申込期限：12月5日（木）

【ポスター発表募集中】
ポスター発表のみでも結構ですが、できるだけショートプレゼンも
お願いいたします。発表内容については特に制限を設けません。
新製品の宣伝的な内容、困り事の相談的な内容でも結構です。
研究機関等にご所属の方の研究紹介も歓迎します。
発表を希望される方は、ホームページよりお申し込みください。

○ポスター発表申込期限：　11月28日（木）
○アブストラクト提出期限：11月28日（木）
○アブストラクト提出先：日本表面真空学会事務局 office＠jvss.jp

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 TEL: 03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897
　　　　　 E-mail: office＠jvss.jp