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[ml_438] SP部会技術講習会(11/17オンライン開催)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
2021年度技術講習会

スパッタリング法による薄膜堆積においては、放電の特徴およびスパッタリング現象の特性が堆積された薄膜の構造と物性、そして生産におけるプロセスの条件およびその安定性に大きく寄与します。これはスパッタリング法におけるターゲット粒子の気相への放出過程、そして気相にある粒子の凝縮による薄膜堆積過程の両者ともが非平衡プロセスであるためです。工業的生産においてスパッタリング法の特徴を最大にいかして薄膜堆積をおこなっていくためには、スパッタリング過程の特徴および同法により堆積された薄膜の構造と物性の特徴を理解することが必須となります。本講習会では、これらを多くの実践資料をもとに学んでいきます。スパッタリング法による薄膜堆積に携わる若手・中堅技術者に適した講習会です。開催要項は下記の通りです。多数のご参加をお待ち申し上げます。

開催日時：2021年11月17日（水）13:00～16:30

開催方法：Web会議形式（Zoom）

講師：草野英二（金沢工業大学教授）

題目：スパッタリング法により堆積された薄膜の構造、物性、及び膜応力と付着

講義内容
1．はじめに本講義の概要
2．スパッタリング放電の特徴
3．スパッタリング現象とその非平衡性
4．スパッタリング法により堆積された薄膜の構造
5．反応性スパッタリング法の特徴と工業的応用
6．種々のスパッタリング法とその工業的特徴
7．スパッタリング薄膜における内部応力と薄膜付着力
8．スパッタリング薄膜堆積過程の安定性に寄与する要因
9．おわりに本講義のまとめ

受講料：SP部会会員 5,000円
日本表面真空学会会員 15,000円
一般 20,000円
学生 2,500円
＊聴講およびテキスト代（消費税込み）

定員：30名

申込方法；ホームページよりお申込みください。 https://www.jvss.jp/

申込締切：2021年11月8日（月）

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
E-mail: office@jvss.jp TEL: 03-3812-0266