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[ml_530] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第171回定例研究会のご案内
対象：会員および一般
速報発信者；後藤康仁（京都大学、日本表面真空学会SP部会長）
スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第171回定例研究会
「機能性酸化物薄膜の次世代デバイス応用」
絶縁性、圧電性、超伝導性、透明性など幅広い物性バリエーションを有する酸化物材料は様々なデバイス応用が検討されています。移動体通信技術をとってみても、beyond5G/6Gへの移行に伴い数多くのデバイスが必要になり、機能性酸化物薄膜の出番は加速度的に増すことが予想されます。 今回、機能性酸化物薄膜の次世代デバイス応用をメインテーマとする研究会を企画しました。最先端の研究をご紹介いただくとともに、実用化に繋がる有益な議論の場となることを期待いたします。
開催日時：2022年8月1日（月）13:40～16:50
開催方法：ハイブリッド（対面＋Zoom）
※講師は会場で講演予定。ただし変更があるかもしれません。
開催場所：機械振興会館 6D-4会議室
http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
プログラム：※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:40～13:45 開会の挨拶
日本表面真空学会SP部会 部会長 後藤 康仁（京都大学）
13:45～14:25
「デジタル処理DCスパッタによる機能性酸化物の原子層精度堆積とフォトニクス応用」
一色 秀夫（電気通信大学）
14:25～15:05
「ペロブスカイト型酸化物薄膜の機能発現とデバイス応用」
高島 浩（産業技術総合研究所）
15:05～15:25 休 憩
15:25～16:05
「酸化物ナノワイヤの機能設計と分子認識エレクトロニクス展開」
長島 一樹（東京大学）
16:05～16:45
「圧電MEMSのための鉛複合酸化物のスパッタエピタキシー」
吉田 慎哉（芝浦工業大学）
16:45～16:50 閉会の挨拶
日本表面真空学会SP部会 小寺 恭介（昭和真空）
参加費（資料代・消費税を含む）
SP部会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 5,000円
一般：28,000円
参加定員
対面：35名
オンライン：20名（希望者が多い場合は変更の可能性があります。）
申込方法：ホームページよりお申込み下さい。https://www.jvss.jp/
申込締切：2022年7月20日（水）
新型コロナウィルス感染防止対策
・当日は事前に郵送した講演資料集冊子をご持参下さい。資料をお持ちの方のみ入室できます。
・当日はマスクの着用と手指の消毒をお願いします。
・対面参加予定の方で、当日体調不良ないしは発熱のある方は対面参加を取りやめてオンラインでご参加下さい。
・当日、会場での体調チェックを受けていただき、発熱等がある場合は、対面での参加をお断りすることがあります。
問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266 E-mail: office＠jvss.jp
日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL：03-3812-0266 FAX：03-3812-2897 Email：