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[ml_583] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第172回定例研究会・第19回技術交流会のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学、日本表面真空学会SP部会長）

日本－ベルギー二国間研究交流ワークショップ
～プラズマプロセスが切り拓く次世代表面処理技術の開発動向～
（SP部会第172回定例研究会・第19回技術交流会）
（表面技術協会高機能トライボ表面プロセス部会第20回例会）
（応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会新領域研究会(12月5日)）

この度は、ベルギー王女主宰経済使節団の来日に合わせて、日本およびベルギーの二国間の研究者交流と両国の持続的な研究ネットワークの形成を目的として、日本学術振興会およびベルギー国立科学研究基金(Fonds de la Recherche Scientifique-FNRS：F.R.S.-FNRS)の後援の元、プラズマプロセスに携わる日本－ベルギーの研究者間の研究交流ワークショップを本部会の定例研究会として開催する運びとなりました。スパッタリングを始めとしたプラズマプロセスの最先端技術に携わる国内およびベルギーの著名な研究者による講演およびSP部会員を中心としたポスターセッション形式による技術交流会を企画しております。この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき、会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております。また技術交流会は、部会員以外の方の参加も歓迎いたします。皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

日時： 2022年12月5日（月）10:00～18:15
場所：東京都立産業技術研究センター（本部）
　　　〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10

講演プログラム ※講演時間30分（質疑応答5分間含む）
10:00～10:30　開会式　　司会：東京都立大学清水徹英
　　　　　　　　後援・共催団体代表による挨拶：
　　　　　　　　日本学術振興会、ベルギー国立科学研究基金、東京都立産業技術研究センター、共催三部会

10:30～10:45　“Introduction of FNRS-JSPS bilateral activities, “UpRISING”,
　　　　　　　　Prof. Tetsuhide Shimizu (Tokyo Metropolitan University, Japan)

10:45～11:15　“Innovative PVD strategies for the design of novel TiO2-based photoanode”,
　　　　　　　　Prof. Rony Snyder (University of Mons, Belgium)

11:15～11:45　“Fabrication of isolated nanocolumnar structures by glancing-angle deposition in reactive plasma environments”,
　　　　　　　　Prof. Yasushi Inoue (Chiba Institute of Technology, Japan)

11:45～12:00　技術交流会ショートプレゼン

12:00～13:00　昼食休憩

13:00～13:30　“Thin film synthesis using atmospheric pressure dielectric barrier discharges : from uncontrolled amorphous organic films to chemically patterned and crystalline coatings.”,
　　　　　　　　Prof. François Reniers (Université Libre de Bruxelles, Belgium)

13:30～14:00　“Deposition of diamond-like carbon film by high power pulse magnetron sputtering”,
　　　　　　　　Prof. Takayuki Ohta (Meijo University, Japan)

14:00～14:30　“Bipolar high power impulse magnetron sputtering: a route to tailor the film properties”,
　　　　　　　　Prof. Matthieu Michiels (Haute Ecole en Hainaut, Belgium)

14:30～15:15　技術交流会（ポスター形式）およびコーヒーブレイク

15:15～15:45　“Understanding pulsed sputtering via imaging of the ground state particles”,
　　　　　　　　Prof. Nikolay Britun (Nagoya University, Japan)

15:45～16:15　“Toward a low pressure plasma Virtual Coater by fast multiscale computer modeling algorithms”,
　　　　　　　　Prof. Stefan Lukas (University of Namur, Belgium)

16:15～17:00　技術交流会（ポスター形式）およびコーヒーブレイク

17:00～17:30　“Europe/Japan collaboration in the field of surface treatment technologies”,
　　　　　　　　Dr. Koichi Suzuki (Surftech Transnational, Japan)

17:30～18:00　“Sputtering on liquids substrate, towards the synthesis of nanoparticles”,
　　　　　　　　Prof. Stephanos Konstantinidis (University of Mons, Belgium)

18:00～18:10　閉会の挨拶

参加費：無料
資料代（消費税込）
　SP部会会員：無料
　共催団体部会会員：無料
　日本表面真空学会個人正会員：3,000円
　日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
　教育機関、公的機関に属する方：3,000円
　学生：無料（講演資料集冊子の配布はございません）
　一般：5,000円
　技術交流会発表者：無料

共催：
　日本表面真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
　東京都立産業技術研究センター
　応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
　表面技術協会高機能トライボ表面プロセス部会
　後援：日本学術振興会、ベルギー国立科学研究基金

参加定員： 70名程度
申込方法：ホームページよりお申込みください。https://www.jvss.jp/
申込締切： 2022年11月21日（月）

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 TEL: 03-3812-0266　　E-mail: office＠jvss.jp