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[ml] SIMS国際シンポジウム(SISS-22)のお知らせ
対象：会員および一般
速報発信者；谷口昌宏（金沢工大）
日本表面真空学会のマイクロビームアナリシス技術部会(MBA)ではSISS事業としまして、成蹊SIMS国際シンポジウム(SISS)を開催して参りました。
SISSはイオンを活用した新たな計測手法への展開を目指して活発な議論が行われる国際的な会議です。
2023年はSISS-22としまして金沢にてハイブリッド方式にて開催いたします。
皆様の積極的なご参加をお待ちしております。
主催 日本表面真空学会 マイクロビームアナリシス技術部会 SISS事業
日時 2023年6月15日(木)、16日(金)
場所 金沢工業大学 多目的ホール（石川県野々市市扇が丘7-1）
アクセス：https://www.kanazawa-it.ac.jp/about_kit/ogigaoka.html
SISS-22 ウェブサイト http://siss-sims.com/siss/?page_id=2919
参加費用および登録：一般5000円、学生2000円（ウェブサイトからのオンラインのみ）
（ウェブページ内の日本表面真空学会PayPal口座へ送金いただきます）
発表申し込み期限：ポスター：5月12日（延長しました、講演要旨を一緒に提出ください）
（口頭発表は締め切らせていただきました)
* 口頭での講演はハイブリッドにてオンラインで視聴いただけますが、ポスターセッションは現地参加のみとなっております。ご了解ください。
招待講演者（アルファベット順）
Jean-Paul Barnes (Univ. Grenoble Alpes)
Yimeng Chen (CAMECA)
Graham Cooke (HIDEN ANALYTICAL)
Alex Dexter (NPL, UK)
John Fletcher (Univ. Gothenburg)
Tae Eun Hong (KBSI Busan Center)
Nicholas Lockyer (Univ. Manchester)
Satoshi Ninomiya (Univ. Yamanashi)
Paul Pigram (La Trobe University)
Marcus Rohnke (Justus Liebig Univ. Giessen)
Reiko Saito (Toshiba)
David Scurr (Univ. of Nottingham)
Jun Takahashi (Nippon Steel)
Gustavo F. Trindade (NPL, UK)
Lutao Weng (Hong Kong Univ. Sci. Technol.)
問い合わせ先：siss-secretary@siss-sims.com
日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL：03-3812-0266 FAX：03-3812-2897 Email：